等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發成等離子狀態。

在等離子清洗應用中，主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機氣體（Ar2、N2、H2、O2等）在高頻低壓下被激發，產生含有離子、激發態分子，自由基等多種活性粒子。一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩類，一類為惰性氣體的等離子體（如Ar2、N2等）；另一類為反應性氣體的等離子體（如O2、H2等）。這些活性粒子能與表面材料發生反應，其反應過程如下：

電離——氣體分子——激發——激發態分子——清洗——活化表面

等離子產生的原理如下

從上圖可以看出，給一組電極施以射頻電壓（頻率約為幾十兆赫茲），電極之間形成高頻交變電場，區域內氣體在交變電場的激蕩下，產生等離子體。活性等離子對被清洗物進行表面物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質變成粒子和氣態物質，經過抽真空排出，而達到清洗目的。

等離子清洗的清洗過程從原理上分為兩個過程
過程1為：有機物的去除
首先是利用等離子的原理將氣體分子激活：
O2→ O + O+2e-，?O+ O2 → O3，?O3 → O + O2
然后利用O，O3與有機物進行反應，達到將有機物排除的目的：
有機物+ O，O3→ CO2 + H2O
過程2為：表面的活化
首先是利用等離子的原理將氣體分子激活：
O2→ O + O+2e-，?O+ O2 → O3，?O3 → O + O2
然后利用O，O3含氧官能團的表面活化作用，來改善材料的粘著性和濕潤性能，其反應為：
R?+O?→RO?
R?+O2→ROO?
在實際使用中，考慮到生產成本及實際使用穩定性，一般使用凈化的ADC（壓縮空氣）、O2、N2，只有在一些特殊場合才使用氬氣。這是利用等離子體中的氧氣的游離基的運動使表面達到親水基化。當形成這一親水基時，等離子氧游離基與基板表面的碳結合生成CO2，從而除去有機物質。
等離子清洗技術能夠清除金屬、陶瓷、塑料、玻璃表面的有機污染物，可以明顯改變這些表面的粘接性及焊接強度。離子化過程能夠容易地控制和安全地重復實現。可以說，有效的表面處理對于產品的可靠性或過程效率的提高是至關重要的，等離子技術也是目前最理想的技術。通過表面活化，等離子技術可以改善絕大多數物質的性能：潔凈度、親水性、斥水性、粘結性、標刻性、潤滑性、耐磨性。

等離子清洗在COG-LCD組裝技術中的應用

LCD的COG組裝過程，是將裸片IC貼裝到ITO玻璃上，利用金球的壓縮與變形來使ITO玻璃上的引腳與IC上的引腳導通。由于精細線路技術的不斷發展，目前已經發展到生產Pitch為20μm、線條為10μm的產品。這些精細線路電子產品的生產與組裝，對ITO玻璃的表面清潔度要求非常高，要求產品的可焊接性能好、焊接牢固、不能有任何有機與無機的物質殘留在ITO玻璃上來阻止ITO電極端子與IC BUMP的導通性，因此，對ITO玻璃的清潔顯得非常重要。在目前的ITO玻璃清潔工藝中，大家都在嘗試利用各種清洗劑（酒精清洗、棉簽＋檸檬水清洗、超聲波清洗）進行清洗，但由于清洗劑的引入，會導致由于清洗劑的引入而帶來其他的相關問題，因此，探索新的清洗方法成為各廠家的努力方向。通過逐步的試驗，利用等離子清洗的原理來對ITO玻璃進行表面清潔，是比較有效的清潔方法。
在對液晶玻璃進行的等離子清洗中，使用的活化氣體是氧的等離子體，它能除去油性污垢和有機污染物粒子，因為氧等離子體可將有機物氧化并形成氣體排出。它的唯一問題是需要在去除粒子后加入一個除靜電裝置，其清洗工藝如下：

吹氣－－氧等離子體－－除靜電
　　
通過干式洗凈工藝后的LCD及其電極端子ITO，潔凈度、粘結性得到大大改善。