怎么區分中頻等離子清洗機和射頻等離子清洗機？

等離子清洗是用等離子體通過化學或物理作用對工件表面進行分子水平處理，去除沾污，改善表面性能的工藝過程。對應不同的污染物，應采用不同的清洗工藝。根據選擇的工藝氣體不同，分為化學清洗、物理清洗及物理化學清洗。目前主要使用兩種電源頻率，分別是中頻40KHz、射頻13.56MHz。

中頻等離子清洗機用的是中頻電源，40KHz中頻電源以16位微型控制器為核心、以電力電子器件為功率輸出單元，采用了數字分頻、鎖相、波形瞬時值反饋、SPWM脈寬調制、IGBT輸出等新技術及模塊化結構，具有負載適應性強、效率高、穩定度佳、輸出波形品質好、操作簡單、體積小、重量輕、智能控制、異常保護功能、輸出頻率可調、輸出反應速度快、過載能力強、全隔離輸出，長壽命抗損傷等特點。在中頻等離子清洗機上面就是使用的此種電源控制器。

射頻等離子清洗機則用的是射頻電源，也就是說我們的等離子設備中頻和射頻等離子設備的區分就是看它們使用的匹配電源。射頻Radio Frequency ，簡稱RF。射頻就是射頻電流，它是一種高頻交流變化電磁波的簡稱。每秒變化小于1000次的交流電稱為低頻電流，大于10000次的稱為高頻電流，而射頻就是這樣一種高頻電流。射頻放電能產生和維持高密度、連續、均勻的等離子體，高頻放電時，由于頻率很高，帶電粒子在電場周期內還未運動到極板，電場就發生了改變，帶電粒子在電場作用下向反方向移動，如此往復形成振蕩，因為粒子的運動行程很長，增加了與氣體分子碰撞的機率，電離度比直流輝光放電高出幾個數量級，而且可以在較低的電壓下維持。

激發頻率40kHz的等離子體為中頻等離子，發生反應主要為物理反應；13.56MHz等離子體為射頻等離子體，離子能量和濃度適中，兼顧物理轟擊作用和化學作用，電極一般采用金屬電極。這樣去區分這兩種設備就會變得很容易的了。

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